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在美国的重重封锁下我国国产“芯”技术再突破目标直指5nm

时间: 2024-12-19 00:16:13 |   作者: 小九体育直播

从某种角度来看,我国芯片技术可以在一定程度上完成如此迅猛的提升,确实得感谢美国在某些特定的程度上

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  从某种角度来看,我国芯片技术可以在一定程度上完成如此迅猛的提升,确实得感谢美国在某些特定的程度上送出的“助攻”。倘若不是美国步步紧逼,对我国芯片产业进行一系列的限制和打压,我国或许不可能在如此短的时间里,在设计研发、制造、EDA 软件等芯片技术领域接连取得重大突破。

  可以想象,只要我国接下来能够成功解决“光刻设备”的生产难题,那么这场持续数年的中、美“芯片之争”,我们就可以宣告彻底胜利了。显然,作为我们对手的老美,对这一点也心知肚明。所以,在华为自研麒麟芯片回归后,老美迅速意识到,仅仅依靠芯片进出口管制,已经难以起到实质性的作用了。在这种情况下,限制 ASML 公司“光刻设备”的对华出口和设备售后服务,便成了老美下一阶段的重点针对策略。

  然而,作为全球“光刻设备”巨头的 ASML,在经过深思熟虑之后,决定不再插手中美之间的芯片较量。毕竟在当前的复杂环境下,无论得罪哪一方,其后果都不是 ASML 能够轻易承受的。如此一来,老美方面想要有效地限制我国芯片领域的持续发展,已然变得不那么现实了。而更让老美意想不到的是,就在 ASML 单方面决定明哲保身后,我国光刻设备领域又传来了一则重磅消息。

  就在上个月,工信部正式公布:“我国国产氟化氩光刻机,其套刻精度小于或等于 8nm”。这里提到的氟化氩光刻机,也就是我们常说的 DUV 光刻机。那么,套刻精度小于或等于 8nm 究竟是一个什么样的概念呢?

  简单来说,这在某种程度上预示着我国自研光刻机设备,已经可以在一定程度上完成 65nm 芯片的自主研发。要知道,仅仅在 4 年前,我国光刻设备的精度才仅仅能达到 90nm。这一巨大的跨越,对于我国半导体领域而言,无疑具有非常非常重要的意义。

  或许有人会说,区区 65nm 根本就不够看。但实际上,如果再搭配上华为自研的“芯片堆叠”工艺,那么便可以将芯片的实际功效提升至 7nm 甚至更高。这一突破,无疑是我国半导体领域的一个重大里程碑。而且,按照我们国家科技领域的发展惯例,一旦迈过了最重要的一道坎,后续势必会迎来井喷式的发展。

  此外,更让人感到振奋的是,除国产“光刻设备”取得重大突破外,我国国产光刻胶技术也于前段时间正式打破了日企的垄断。据报道称,武汉太紫微观公司自研的 T150A 光刻胶设备,已正式通过行业工艺认证,进入到大规模量产阶段。

  而在此之前,在光刻胶这一芯片生产的重要辅助材料上,我国一直高度依赖日企进口。虽然目前国产 T150A 光刻胶与日企所生产的光刻胶仍存在不小差距,但也已经跻身世界一流水准。从官方消息来看,国产 T150A 光刻胶的分辨率已达到了 120nm,足以满足 5nm 及以下工艺芯片的生产需求。

  就目前国内市场的需求而言,国产 T150A 光刻胶已经完全能满足我们的使用。从这当中我们还能看出,国产 T150A 光刻胶的出现,意味着我国国产芯片技术已在朝着 5nm 工艺稳步迈进了。

  颇具戏剧性的是,尽管光刻胶在芯片生产的全部过程中是不可或缺的辅助材料,但在实际生产的全部过程中,其使用量并不算大。所以一开始,我国企业也没想着花多大精力去自研光刻胶。但日企却非要在老美的鼓动下作妖,试图断供我国的光刻胶。如此一来,我们自然也就不能继续坐以待毙了。反正迟早都是要突破的,干脆就顺带连日企一块解决了。

  随着光刻设备的分辨率会逐步的提升,向更高制程节点迈进,缩小与国际领先水平的差距。目前我国已取得8nm套刻精度的成果,未来有望进一步突破,实现更精细的芯片图形绘制,满足高端芯片制造需求。

  光源是光刻机的核心部件之一,未来会不断探索更先进的光源技术。如极紫外(EUV)光源技术将持续优化,提高光源的功率、稳定性和能量转换效率,减少相关成本,以更好地支持高端芯片的生产。同时,也有一定可能会有新的光源技术出现,为光刻技术带来新的突破点。

  光学系统的性能对光刻精度至关重要。我国会加大在光学设计、光学材料和光学元件加工等方面的研发投入,提高光学系统的成像质量和分辨率,减少光学误差和失真,提升光刻机的整体性能。

  此外,可能会与其他先进的技术如人工智能、大数据、纳米技术等相融合。人工智能可用于光刻过程的优化控制、故障诊断和预测性维护;大数据可帮助分析和优化光刻工艺参数;纳米技术则有助于提升光刻设备的精度和性能。

  当前我国光刻设备的一些关键零部件仍依赖进口,未来会加强国内产业链的建设,推动零部件的国产化。例如,国内企业会加大对物镜、光栅、工作台等核心零部件的研发和生产力度,提高零部件的质量和性能,降低对国外供应商的依赖,提升整个产业链的自主可控能力。

  光刻设备产业将形成产业集群效应,相关企业、科研机构、高校等会在特定区域内聚集,加强合作与交流,促进技术创新和人才教育培训。产业集群的形成有助于提高产业的整体竞争力,加快光刻设备领域的发展速度。

  随着 5G、人工智能、物联网、汽车电子等新兴起的产业的加快速度进行发展,对半导体芯片的需求持续增长,这将为光刻设备市场提供广阔的发展空间。国内半导体产业的不断壮大,将促使国内对光刻设备的需求持续增加,推动光刻设备企业逐步的提升产品性能和产能,以满足市场需求。

  出于对供应链安全和自主可控的考虑,国内半导体企业对国产光刻设备的需求将日益增加。政府也会继续出台有关政策,支持国产光刻设备的研发和应用,加速国产替代进程。这将为国内光刻设备公司能够带来更多的市场机会和发展机遇。

  综上所述,我们完全有理由相信,随着国产半导体领域的持续发展,在不远的将来,我们必定可以在一定程度上完成该领域的全面追赶超越。我国芯片产业在经历了重重挑战之后,正以坚定的步伐向着更高的目标迈进,未来可期。

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